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SUNLU PLA+ 2.0 est un filament PLA+ perfectionné destiné aux applications FDM/FFF, conçu pour des processus d'impression rapides, une grande stabilité dimensionnelle et des performances améliorées.matériau convient aussi bien aux prototypes qu'aux impressions courantes et aux pièces fonctionnelles, et s'adresse aux utilisateurs à la recherche d'un filament robuste, facile à utiliser et offrant des performances de pointe. Par rapport au PLA classique, le PLA+ 2.0 a été conçu pour offrir une plus grande résistance et une meilleure aptitude à l'usage quotidien. Il allie la facilité de traitement typique du PLA à une résistance améliorée et convient ainsi également aux impressions devant supporter des contraintes mécaniques un peu plus importantes. Dans le même temps, le matériau reste adapté à des vitesses d'impression élevées et permet une fabrication rapide sans compromis inutiles en matière de précision et de qualité de surface. Le PLA+ 2.0 s'avère également être un matériau polyvalent dans le cadre d'une utilisation quotidien
Historique des prix
Prix mis à jour pour la dernière fois le :